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特种气体在半导体产业的应用
时间:1545212725来源:未知

  近年来我国半导体产业高速发展,促使这一块所需使用气体的飞速发展,半导体产业对气体的使用要求极高。下面随青岛气体公司来看一下特种气体在半导体产业的应用。

  特种气体应用于半导体产业的应用:

  半导体工业用气品种多、质量要求高、用量少,大部分是有毒或腐蚀性气体,品种高达百余种。半导体工业特种气体按照应用分类,主要包括:

  (1)、硅族气体:含硅基的硅烷类,如硅烷(SiH4)、二氯二氢硅(SiH2Cl2)、乙硅烷(Si2H6)等。

  (2)、掺杂气体:含硼、磷、砷等三族及五族原子之气体,如三氯化硼(BCl3)、三氟化硼(BF3)、磷烷(PH3)、砷烷(AsH3)等。

  (3)、蚀刻清洗气体:以含卤素的卤化物及卤碳化合物为主,如氯气(Cl2)、三氟化氮(NF3)、溴化氢(HBr)、四氟化碳(CF4)、六氟乙烷(C2F6)等。

  (4)、反应气体:以碳系及氮系氧化物为主,如二氧化碳(CO2)、氨(NH3)、氧化亚氮(N2O)等。

  (5)、金属气相沉积气体:含卤化金属及有机烷类金属,如六氟化钨(WF6)、三甲基镓(Ga(CH3)3)等。

  在半导体化合物生长过程中,除了纯特种气体之外,还需要部分混合气体,主要包括SiH4/H2。SiH4/N2作为成膜源用量尽管不大,但是对产品质量要求极高。